沙瑞勒·内维尔喝着手里拿着的咖啡，看着电脑新闻网站，最近那闹的沸沸扬扬的到底谁抄了谁的新闻.
摇了摇头，笑着把电脑上相关的网页全都关闭了。
这东西，谁抄谁有什么好争的，谁先生产出来，谁先申请专利，那就是谁的，国际上不都是这么操作的吗？这些媒体也无聊，这东西也有什么值得争的？
从视频上来看，那个华国的骗子不就随便弄了点软件在电脑上运行了一下而已，而这边米国的腰子科技公司，连样品都拿出来了，要知道，两个月不到的时间可不能把那些说出来的科技与系统上的设想完善，这么一对比。
那谁抄谁的不是一目了然吗？
再说了，华国有这种科技实力，研发这么高级的东西吗？
他们不一直喜欢偷买一些别人家的产品，把上面的LOGO打磨掉冒充自家的产品吗？
“哼——”
还是自家的产品好——光刻机。
这种高端的东西，就算华国的那些垃圾如何想来碰瓷都不行，这就是人类历史最顶级的科技与技术，让那些想碰瓷垃圾感到绝望。
沙瑞勒·内维尔他是A斯麦公司，下一代产品的项目总工程师。
得益于，湾积电一个叫做林奔坚的鬼才工程师出现了，让A斯麦押注的沉浸式光刻机成功的使得原有的193nm激光经过折射，直接越过了157nm的天堑，降低到132nm。
把原本世界上的光刻机霸主，樱花的N康与J能踩在了脚下。
当然，如今几者差距还不算大。
A斯麦，还在小心翼翼，加大科研的投入。
想要把这个差距扩大。
扩大到让全世界都死心的地步。
为此，这家公司，受到了全欧洲最大的科研经费的投入。
如今的人均科研经费甚至排在了全欧洲第二位，远高于其他企业，甚至是军工企业。
从这点上便可以看出，整个欧美对这项技术的支持。
不过想起了，樱花。
沙瑞勒·内维尔也只是微微的为他们惋惜了一阵而已。
身为项目内的人员，他更清楚这些年因为光刻机，欧米这边所干的阴暗往事。
其实，造成如今这一切的并不止是简简单单两千年初踏错了干刻湿刻之分。
更像是一场有预谋的阴谋。
早于1997年，在米国政府一手干预下，尼康被EUVLLC排挤在外时，这已经注定了如今光刻机市场A斯麦一家独大的结局。
前面提到，当年为了尝试突破193nm，英特尔更倾向于激进的EUV方案，于是早在1997年，欧米那边就联合起来成了了一个叫EUVLLC的联盟。
联盟中的名字个个如雷贯耳：除了Y特尔和牵头的M国能源部以外，还有M托罗拉、AMD、IBM，以及能源部下属三大国家实验室：L伦斯利弗莫尔国家实验室、S迪亚国家实验室和L伦斯伯克利实验室。
这些实验室是米国科技发展的幕后英雄，之前的研究成果覆盖物理、化学、制造业、半导体产业的各种前沿方向，有核武器、超级计算机、国家点火装置，甚至还有二十多种新发现的化学元素。
于是，资金到位，技术入场，人才云集，但偏偏联盟中的米国光刻机企业SVG、Ultratech早在80年代就被尼康打得七零八落，根本烂泥扶不上墙。
本来英特尔想拉来尼康和A斯麦一起入伙，并不想A斯麦一家独大。
但问题是，这两家公司，一个来自樱花，一个来自何兰，都不是米国本土企业。
而偏偏，米国政府又将EUV技术视为推动本国半导体产业发展的核心技术，并不太希望外国企业参与其中，更何况八十年代在半导体领域压了米国风头的樱花，甚至可以这么说，如今的华国有多想要光刻机，当年的米国就多想要光刻机。
光刻机又几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。
光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高。